Ulm, Deutschland

Der Cicor Standort in Ulm (Reinhardt Microtech GmbH) ist spezialisiert auf die Herstellung starrer und flexibler Substrate in Dünnschichttechnik und verfügt auf diesem Gebiet über umfassende Entwicklungskompetenzen. Die Fertigung findet im Reinraum unter Einsatz mikroelektronischer Fertigungsprozesse wie Lithographie, Sputtern, Ätzen, Galvanik und mechanische Bearbeitung statt. Die Produktion und Prozesse sind auf maximale Flexibilität ausgelegt, um auch besondere Anforderungen an Substratmaterialien und Prozesskombinationen erfüllen zu können. Der Standort bietet Dünnschichtsubstrate (Al2O3, AlN, LCP, Polyimid, Ferrite, Glas) in Prototypen- und Volumenfertigung.

Produkte & Dienstleistungen

Dünnschicht Substrate

News

  • Femtosekunden-Laser in der Dünnfilmfertigung

    Mit den steigenden Anforderungen an Dünnfilmschaltungen haben sich auch die Anforderungen an die Qualität der mechanischen Bearbeitung von keramischen und flexiblen Substratmaterialien erhöht. Für diese komplexen Anwendungen verwendet Cicor am Standort Ulm einen modernen Femtosekunden-Laser der Firma GFH als hochpräzises Werkzeug für die Mikrobearbeitung von flexiblen und keramischen Substratmaterialien. Der Hauptnutzen der Maschine ist, dass nur eine Lasermaschine und eine Laserquelle verwendet werden muss, um alle verschiedenen Laseranwendungen in perfekter Qualität und mit einer wirtschaftlichen Durchlaufzeit zu bewältigen. Die Laserarbeiten von Cicor in Ulm umfassen das Bohren, Schneiden und Abtragen von Substraten vor der Metallisierung sowie Arbeiten an bereits metallisierten und lithographisch strukturierten Substraten.

  • Laser Direct Imaging (LDI)

    Durch den Einsatz eines – zur Zeit in Qualifikation befindlichen - LDI Belichters werden Kosten und Wartezeiten für Masken eliminiert. Global and Local Alignment Fähigkeit erlaubt die individuelle Belichtung einzelner Schaltungen auf großen Flex-Substraten. Substrate können fortlaufend und individuell gekennzeichnet werden.

  • Reinraum

    Der Standort verfügt über 520m2 Reinräume für die Dünnschicht Herstellung in der ISO Klasse 7 bis ISO 6 (Klasse 10000 bis 1000).